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技術(shù)文章Article 當(dāng)前位置: 首頁(yè) > 接觸角測(cè)試技術(shù)及其應(yīng)用 > 3D接觸角測(cè)量?jī)x/水滴角測(cè)量?jī)x應(yīng)用于晶圓 wafer接觸角測(cè)值

3D接觸角測(cè)量?jī)x/水滴角測(cè)量?jī)x應(yīng)用于晶圓 wafer接觸角測(cè)值

點(diǎn)擊次數(shù):1570    發(fā)布時(shí)間:2022-09-26 00:00:00

 美國(guó)科諾研制的3D接觸角測(cè)量?jī)x針對(duì)材料表面的化學(xué)多樣性、異構(gòu)性、表面粗糙度的影響分析具有非常強(qiáng)的實(shí)際價(jià)值。同時(shí),由于大部分材料的測(cè)試表面水平度不夠水平、測(cè)試儀器的水平度調(diào)整不夠,也會(huì)出現(xiàn)角度的偏差。

在具體應(yīng)用中,主要體現(xiàn)為:

1、測(cè)試材料表面的清潔度:分析如液晶玻璃、手機(jī)玻璃、PCB板、硅片、晶圓、wafer表面的接觸角值,評(píng)估其等離子清洗效果。如果出現(xiàn)左、右角度值偏差超過(guò)一定的范圍,即視為清潔失敗。這種方法可以實(shí)現(xiàn)快速(一滴液滴即可完成評(píng)估)、(角度值誤差1度之內(nèi))。

2、評(píng)估材料的多樣性情況:通常評(píng)估左、右角度值是否均勻,分析材料本身的涂布效果等。

在應(yīng)用中,如下為一張頂視條件下的wafer表面的水滴角圖片及其擬合效果圖。

水滴角測(cè)量-晶圓

水滴角量?jī)x

通過(guò)圖片可以明顯看出側(cè)視條件下無(wú)法看到的情況,擬合的輪廓無(wú)法用圓實(shí)現(xiàn)擬合。主要是因?yàn)楣饪涛g后形成的電路結(jié)構(gòu)影響了水滴的吸附,因而,此種情況下只有3D接觸角測(cè)量?jī)x才能完成相應(yīng)的測(cè)值。

 

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